| 分子印迹纳米材料用于DNA损伤的荧光成像分析 | |
尹俊发 ; 宋媛媛; 徐田; 张宁; 宋茂勇; 汪海林
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| 2015-04-19 | |
| Conference Name | 第二十届全国色谱学术报告会及仪器展览会 |
| Conference Date | 2015-04-19 |
| Conference Place | 中国陕西西安 |
| Department | 环境化学与生态毒理学国家重点实验室 |
| Abstract | 污染物的致癌性与DNA损伤存在着因果关系,并可能是化学致癌进程的关键步骤。环境中高毒性、难降解的污染物(如苯并[a]芘、酚类污染物)进入生物体后,原型或代谢中间体会与DNA发生作用,形成DNA加合物、8-oxod G等损伤产物。这些DNA损伤产物分布频数通常仅在0.1~100个损伤产物/10~8个正常核苷酸,传统的分析化学方法难以企及。因此,DNA损伤分析面临的突出挑战是怎样在大量的正常DNA中甄别和筛查痕量的特定DNA损伤产物[1]。 |
| Keyword | 分子印迹聚合物 纳米材料 Dna损伤 |
| Document Type | 会议论文 |
| Identifier | http://ir.rcees.ac.cn/handle/311016/33395 |
| Collection | 环境化学与生态毒理学国家重点实验室 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 尹俊发,宋媛媛,徐田,等. 分子印迹纳米材料用于DNA损伤的荧光成像分析[C],2015. |
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